Płytka półprzewodnikowa kwarcowa

Podłoże kwarcowe Semixlab Semiconductor Quartz Wafer to precyzyjnie polerowane, niezwykle czyste podłoże z topionej krzemionki przeznaczone do wymagających środowisk przetwarzania półprzewodników.

Jest szeroko stosowany jako płytka pozorna, płytka nośna, podłoże optyczne i baza fotomaski w systemach utleniania termicznego, CVD/LPCVD, PECVD i litografii.

Wykonany z SiO₂ o czystości 99.99%, ten wafel kwarcowy charakteryzuje się wyjątkową stabilnością termiczną, obojętnością chemiczną i przejrzystością optyczną, gwarantując stabilną i wolną od zanieczyszczeń pracę w zaawansowanych liniach produkcyjnych półprzewodników.

I. Właściwości materiałów i powierzchni

● Materiał: Syntetyczna lub naturalna krzemionka topiona (SiO₂ ≥ 99.99%).

● Dostępne średnice: 2", 4", 6", 8", 12" (dostępne rozmiary niestandardowe).

● Wykończenie powierzchni: polerowanie dwustronne, płaskość ≤ 5 μm, chropowatość powierzchni ≤ 0.5 nm.

● Odporność termiczna: Stabilna do 1200°C przy ciągłej pracy.

● Współczynnik rozszerzalności cieplnej: 5.5 × 10⁻⁷ /°C.

● Transmisja optyczna: >90% od 190 nm do 2,600 nm.

Każdy wafel przechodzi rygorystyczną kontrolę powierzchni, weryfikację wymiarów i analizę czystości, aby zagwarantować pełną zgodność z wymaganiami stawianymi półprzewodnikom.

II. Kluczowe funkcje w procesach półprzewodnikowych

1. Nośnik procesu w układach CVD i LPCVD

Płytki kwarcowe służą jako płytki pozorne lub dystansowe do stabilizacji przepływu gazu i równomierności temperatury podczas osadzania cienkich warstw SiO₂, Si₃N₄ i polikrzemu. Ich precyzja wymiarowa zapewnia równomierny wzrost warstwy i minimalną generację cząstek w całym cyklu osadzania.

2. Zastosowania pieców utleniających i dyfuzyjnych

W procesach utleniania i dyfuzji domieszek w wysokiej temperaturze, płytki kwarcowe pełnią funkcję osłon termicznych lub monitorów procesu, utrzymując równomierny rozkład temperatury i zapobiegając zanieczyszczeniu płytek produkcyjnych.

3. Zastosowanie optyczne i litograficzne

Dzięki wysokiej transmitancji optycznej i jednorodności współczynnika załamania światła, wafel kwarcowy idealnie nadaje się do produkcji fotomasek, podłoży do naświetlania DUV oraz narzędzi do kalibracji optycznej. Gwarantuje spójną transmisję światła w systemach litograficznych i-line, KrF i ArF.

4. Środowiska plazmowe i trawiące

W systemach trawienia na sucho i plazmowego osadzania chemicznego z fazy gazowej (CVD) płytki kwarcowe są stosowane jako osłony komór lub okna plazmowe, zapewniając doskonałą wytrzymałość dielektryczną i odporność chemiczną na działanie gazów na bazie halogenów (CF₄, SF₆, Cl₂).

5. Metrologia i kalibracja sprzętu

Płytki kwarcowe służą jako płytki referencyjne do kalibracji grubości, temperatury i płaskości warstwy. Ich wyjątkowo gładka, pozbawiona defektów powierzchnia umożliwia dokładne i powtarzalne wyniki pomiarów, gwarantując stabilność kontroli procesu.

Typowe zastosowania

● Wafel pozorny do systemów CVD, LPCVD i PECVD

● Nośnik procesu lub osłona termiczna w piecach utleniających i dyfuzyjnych

● Podłoże fotomaski do litografii UV/DUV

● Płytka referencyjna do kalibracji i metrologii urządzeń

● Ochraniacz okna komory plazmowej i procesu trawienia

Wafel kwarcowy Semixlab Semiconductor to wysokowydajny substrat zaprojektowany z myślą o najbardziej wymagających procesach półprzewodnikowych. Jego stabilność termiczna, precyzja optyczna i czystość chemiczna czynią go niezastąpionym w zastosowaniach związanych z osadzaniem, utlenianiem, litografią i metrologią. Dzięki kompleksowemu dostosowaniu i wsparciu inżynieryjnemu, Semixlab dostarcza rozwiązania maksymalizujące spójność procesów, niezawodność i wydajność operacyjną. Mamy szczerą nadzieję, że zostaniemy Państwa długoterminowym partnerem w Chinach.